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在 ChatGPT 引爆 AI 熱潮后的兩年間,全球算力需求以每年超過 400% 的速度激增。隨著 DeepSeek 等國產大模型的技術突破,這場算力競賽正以前所未有的深度重塑半導體產業鏈。作為數字經濟的基礎設施,溫控技術在芯片制造、服務器散熱及數據中心運營中扮演著愈發關鍵的角色。深耕行業三十載的阿爾西,正憑借全鏈條溫控解決方案,為 AI 時代的算力革命提供核心技術支撐。
突破物理極限的溫控挑戰
當半導體工藝向 3 納米以下制程邁進時,EUV 光刻技術對溫度波動的容忍度已降至納米級。阿爾西 VENUS 系列溫控機臺通過 ±0.1℃的超精度控制,成功解決了光刻膠形變難題。其創新的雙通道切換系統(VENUS-CHD1015)可在 - 20℃至 + 90℃的寬溫域內快速響應工藝需求,結合智能算法與液冷技術,使能耗降低 30% 的同時,生產效率提升 45%。該設備已通過 CE、Semi-S2 等國際認證,成為先進制程產線的標配裝備。
智慧化熱管理體系
針對全球數據中心 3% 的電力消耗現狀,阿爾西構建了 "四維聯動" 溫控架構:
自然冷卻中樞:集成干冷塔技術,年自然冷卻時長超 5500 小時,能耗降低 30%;
混合冷卻架構:風墻換熱器與液冷 CDU 智能切換,適應 30-150kW/m2 負載波動;
智能溫控網絡:200 + 傳感器實時優化冷量分配,溫差控制精度 ±0.3℃;
液冷機柜矩陣:單柜 150kW 散熱能力,冷卻密度提升 4 倍;
該體系通過芯片級精密控溫(±5mK)與數據中心級智能管理(±0.3℃)的協同優化,實現年均 PUE<1.15,部署成本降低 50%,為綠色數據中心建設樹立新標桿。
構建全鏈條溫控生態
阿爾西通過三大技術突破構建差異化競爭力:
芯片制造端:超精密控溫技術實現制程良率提升 12%;
服務器散熱端:噴淋液冷技術突破單機柜散熱極限;
數據中心端:智慧化系統實現全生命周期能效優化;
未來,阿爾西將持續深化 AI 技術融合,開發第五代溫控算法,計劃將控溫精度提升至 ±0.05℃,同時探索量子計算散熱等前沿領域。通過構建從納米級制程到兆瓦級數據中心的全鏈條溫控解決方案,阿爾西正助力中國在全球算力競賽中占據戰略主動地位。
在這場由 AI 驅動的產業變革中,溫控技術已成為決定算力基礎設施效能的核心要素。阿爾西憑借三十年技術積淀與持續創新,正為半導體產業升級提供不可或缺的溫控保障。隨著數字經濟的深入發展,其全鏈條溫控解決方案必將在更廣闊的領域發揮關鍵作用,為智能時代的基礎設施建設注入中國智慧。
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